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吉倉產(chǎn)品
無氟紫外光輔助刻蝕多層Mo2C

無氟紫外光輔助刻蝕多層Mo2C

產(chǎn)品信息
名稱:紫外光輔助刻蝕多層Mo2CTx
尺寸:1-5um
層數(shù):10-20層
產(chǎn)品性能:高純度優(yōu)良的電化學(xué)性能
官能團:-OH-F-O-Cl(可定制)
純度: 99%
儲存條件:常溫干燥
工藝:冷凍干燥
具體細(xì)節(jié):新型紫外光輔助選擇性刻蝕方法,可以將Mo2Ga2C前驅(qū)體中的Ga原子刻蝕,進(jìn)而得到無氟的Mo2C MXene,并且避免了對毒性高腐蝕性酸的使用。得到的MXene展現(xiàn)出了獨特的2D石墨烯狀的結(jié)構(gòu)以及較高的純度。當(dāng)其作為可充電電池的負(fù)極材料時,展現(xiàn)出了杰出的倍率性能與循環(huán)穩(wěn)定性,儲鋰容量可以穩(wěn)定在在150 mAh g-1左右,而儲鈉則可以穩(wěn)定在50 mAh g-1左右。此外,柔性的Mo2CMXene基電池具有杰出的容量保留率(89%和74%)。因此, 這種MXene展示出了在離子存儲應(yīng)用中的巨大潛力,以及這種綠色的合成方法可以擴展其他MXene的合成思路,極具參考意義。
應(yīng)用領(lǐng)域:儲能、催化、分析化學(xué)、力學(xué)、吸附、生物、微電子、傳感器等
尺寸工藝均可定制

價格:1900元/500毫克,3750元/克
jc@jcno.net

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