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化學氣相沉積系統(tǒng)（冷壁CVD）

化學氣相沉積系統(tǒng)（冷壁CVD）

冷壁CVD 生長設備是對現(xiàn)有石英管式爐CVD 生長設備功耗大、控制性差、產(chǎn)量低等缺點開發(fā)出來的一款新型CVD 生長設備。該設備不僅可以用于石墨烯生長，還可用于六角氮化硼等二維材料薄膜、MBE 薄膜及復合薄膜生長。

1.背景氣壓低，雜質(zhì)氣體干擾少。
2. 參數(shù)控制性好，實驗重現(xiàn)性高。
3. 可擴展性強，可以定制原位金屬電極
     蒸鍍參雜等功能。
4. 能耗低，產(chǎn)量高，適用于工業(yè)化生產(chǎn)
（大型冷壁CVD）。

技術參數(shù)：





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