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安徽大學(xué)Helin Niu,Kaixuan Wang等--用于超級電容器的MXene集成柔性碳膜的非預(yù)氧化合成
      雖然集成MXene的柔性碳膜已被證明是具有良好儲(chǔ)能前景的新一代超級電容器材料,但是碳膜制備過程中MXene的氧化和活性位點(diǎn)的缺失會(huì)導(dǎo)致不可逆的容量損失。此中,通過靜電紡絲和金屬有機(jī)骨架衍生相結(jié)合的非預(yù)氧化合成策略,制備了由MXene集成的N摻雜腔體互連多孔碳納米纖維構(gòu)成的柔性碳膜。該柔性碳膜克服了MXene在聚丙烯腈穩(wěn)定過程中的氧化問題,并且衍生的腔體互連多孔結(jié)構(gòu)暴露了更多的活性位點(diǎn)。由于其獨(dú)特的結(jié)構(gòu)特征和理想的化學(xué)組成,該獨(dú)立的柔性碳膜作為超級電容器的電極材料表現(xiàn)出顯著增強(qiáng)的電化學(xué)性能。在功率密度為500Wkg-1時(shí)表現(xiàn)出26.2 Wh kg-1的能量密度,經(jīng)過10,000次充放電循環(huán)后電容保持率為96.3%。該研究為高性能柔性碳膜的制備提供了獨(dú)特的策略,同時(shí)該技術(shù)還可以擴(kuò)展到其他集成CNF復(fù)合材料,用于設(shè)計(jì)高性能超級電容器電極。
 
圖 1. 圖1. (a)柔性碳膜合成示意圖。碳膜柔性特性的展示:(b)維度展示;(c)纏繞;(d)折疊。
 
圖2. 圖2. SEM圖像:(a)Z-5/PAN薄膜,(b)碳化后的Z-5/PAN薄膜,(c)碳化后的Z-5/PAN薄膜橫截面。碳化后Z-x/PAN薄膜獲得的N-CPCNF的TEM圖像:(d)Z-1/PAN,(e)Z-2/PAN,(f)Z-3/PAN,(g)Z-4/PAN,(h)Z-5/PAN,(i)Z-6/PAN。
 
圖 3. (a) 多層 MXene 的 SEM 圖像。(b) MX-5/Z-5/PAN 薄膜的 SEM 圖像。(c) MX-5/ZnO/CPAN 薄膜的 SEM 圖像。MX-5/N-CPCNF 薄膜:(d) SEM 圖像;(e) TEM 圖像;(f) HRTEM 圖像;(g-l) 相應(yīng)元素 C(紅色)、N(綠色)、O(青色)、F(粉色)和 Ti(黃色)的 EDS 映射圖像。(有關(guān)此圖例中顏色引用的解釋,請讀者參閱本文的網(wǎng)絡(luò)版本。)
 
圖 4. (a) MX-5/Z-5/PAN 薄膜、MXene/ZnO/CPAN 薄膜和 MX-5/N-CPCNF 薄膜的 XRD 圖案。(b) 拉曼光譜:N-CPCNF 薄膜、Mxene 和 MX-5/N-CPCNF 薄膜。MX-5/N-CPCNF 薄膜:(c) N2 吸附/解吸等溫線,(d) 孔徑分布曲線,(e) 全 XPS 光譜,(f-i) C 1s、O 1s、N 1s 和 Ti 2p 的高分辨率 XPS 光譜。
 
 
圖 5. 不同電極材料:(a) GCD 曲線,(b) EIS 圖。MX-5/N-CPCNF 薄膜:(c) 不同掃描速率下的 CV 曲線,(d) 特定峰值電流的 log(i)-log(v) 圖,(e) 5mVs−1 時(shí)的電容貢獻(xiàn)(綠色)和擴(kuò)散貢獻(xiàn)(橙色),(f) 不同掃描速率的貢獻(xiàn)率,(g) 不同電流密度下的 GCD 曲線,(h) 不同電流密度下的比電容,(i) EIS 圖(插圖:高頻區(qū)域)。(有關(guān)此圖例中顏色引用的解釋,讀者請參閱本文的網(wǎng)絡(luò)版本。)
 
 
圖 6. MX-5@N-CPCNF//MX-5@N-CPCNF-SSC 性能測試:(a) 不同電壓窗口下的 CV 曲線,(b) 不同掃描速率下的 CV 曲線,(c) 不同電流密度下的 GCD 曲線,(d) EIS 圖(插圖:高頻區(qū)域),(e) Ragone 圖,(f) 循環(huán)穩(wěn)定性測試(插圖:由 SSC 設(shè)備供電的 LED)。
 
     相關(guān)科研成果由安徽大學(xué)Helin Niu,Kaixuan Wang等人于2024年發(fā)表在Chemical Engineering Journal(https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.152804)上。原文:Non-preoxidation synthesis of MXene integrated flexible carbon film for supercapacitors
原文鏈接:https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.152804

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