隨著通信技術(shù)的不斷進(jìn)步，對具有多功能、寬帶EMI性能的電磁屏蔽干擾（EMI）材料的需求日益迫切?？刂齐姎夂痛判栽约霸O(shè)計(jì) EMI 材料結(jié)構(gòu)引起了廣泛的興趣，但仍然是一個巨大的挑戰(zhàn)。在此，我們報(bào)道了通過交替真空輔助過濾過程由中空金屬有機(jī)框架/層狀MXene/納米纖維素（HMN）組成的交替電磁結(jié)構(gòu)復(fù)合薄膜。 HMN復(fù)合薄膜在GHz頻率（Kaband時(shí)為66.8 dB）和THz頻率（0.1-4.0 THz時(shí)為114.6 dB）表現(xiàn)出優(yōu)異的EMI屏蔽性能。此外，HMN復(fù)合薄膜在0.7 THz處還表現(xiàn)出39.7 dB的高反射損耗，有效吸收帶寬高達(dá)2.1 THz。此外，HMN復(fù)合薄膜表現(xiàn)出卓越的光熱轉(zhuǎn)換性能，在2.0 Sun下可達(dá)到104.6 °C，在0.8 W cm−2下可達(dá)到235.4 °C。獨(dú)特的微觀和宏觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)將通過界面偏振/多重散射吸收更多的入射電磁波，并通過局部表面等離子體共振效應(yīng)產(chǎn)生更多的熱能。這些特性使 HMN 復(fù)合薄膜成為未來 6G 通信和寒冷環(huán)境中電子設(shè)備保護(hù)的先進(jìn) EMI 器件的有前途的候選者。
圖1 AVAF策略合成HMN復(fù)合薄膜示意圖。 a Co-HCC、b d-Ti3C2Tx 和 c HMN 復(fù)合薄膜的制備過程。
圖2 HMN復(fù)合薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。分別為 Co-HCC 的 a TEM 圖像和 b EDS 線掃描圖像。分別為 TOCNF 的 c TEM 圖像和 d 尺寸分布。分別為 d-Ti3C2TX 納米片的 e TEM 圖像和 f 晶格條紋。 g、h SEM 圖像、i 示意圖和 j HMN 復(fù)合薄膜的 EDS 映射。
圖3. HMN復(fù)合薄膜的晶體結(jié)構(gòu)和組成。 a 分別是ZIF-8@ZIF67熱解前后的XRD圖譜和b拉曼圖譜。分別為 HMN 復(fù)合薄膜、TOCNF、Co-HCC 和 d-Ti3C2TX 的 c XRD 圖案和 d FTIR 光譜。 HMN 復(fù)合薄膜的 TG 和 DTG 分析。 f ZIF-8@ZIF-67 和 Co-HCC 的氮?dú)馕?解吸等溫線。g d-Ti3C2TX 和 Co-HCC 的 XPS 全譜。 d-Ti3C2TX 的 h Ti 2p 和 Co-HCC 的 i Co 2p 的 XPS 精細(xì)光譜。
圖4. HMN復(fù)合薄膜的電磁性能和千兆赫電磁屏蔽性能。 a–c HMN-5L-57.1% 復(fù)合薄膜的電導(dǎo)率和磁性。 d 具有不同 d-Ti3C2TX 含量的 HMN 復(fù)合薄膜的 EMI SE。 e、f 不同層數(shù) HMN 復(fù)合薄膜的 EMI SE。 g 電磁波從不同方向入射時(shí)HMN-5L-57.1%復(fù)合薄膜的示意圖和EMI SE。 HMN-5L-57.1% 復(fù)合薄膜的 h X、Ku、K 和 Ka 頻段 EMI SE。
圖5. HMN復(fù)合薄膜的太赫茲電磁屏蔽性能。傳輸模型和反射模型中空氣、Al 鏡和 HMN 復(fù)合薄膜的 a、d 太赫茲時(shí)域脈沖。 b、e 傳輸模型和反射模型中空氣、鋁板和 HMN 復(fù)合薄膜的電場強(qiáng)度。 c、f HMN復(fù)合薄膜在傳輸模型和反射模型中的EMI SE和反射損耗。 g、h透射模式和反射模式的太赫茲成像熱譜圖。
圖6. EMI可視化模擬及EMI屏蔽機(jī)制。 a EMI可視化模擬示意圖和特斯拉線圈電路圖。 b HMN復(fù)合薄膜的特斯拉線圈實(shí)驗(yàn)。 c 電磁屏蔽探測器EMI性能和d HMN復(fù)合薄膜實(shí)驗(yàn)。 e HMN復(fù)合薄膜的EMI屏蔽機(jī)制示意圖。 f EMI SE 與其他材料的比較（支持信息表 S2 中列出的樣品編號）。
圖7 HMN復(fù)合薄膜的光熱轉(zhuǎn)換性能。 HMN 復(fù)合薄膜的紫外-可見-近紅外吸收光譜。 b 不同太陽強(qiáng)度下HMN復(fù)合薄膜的表面溫度曲線。 c 在 1.0 太陽照射強(qiáng)度下，HMN 復(fù)合薄膜在 3 個周期內(nèi)的太陽能加熱性能。 d HMN 復(fù)合薄膜在 2.0 Sun（上）和 NIR 照射（下）在 0.8 W cm−2 下不同時(shí)間間隔的紅外熱成像照片。 e 不同 808 NIR 功率密度下 HMN 復(fù)合薄膜的表面溫度曲線。 f 不同 808 NIR 激光功率密度下 HMN 復(fù)合薄膜的溫度演變。 g 模擬光熱輻照的HMN復(fù)合薄膜示意圖
相關(guān)科研成果由北京林業(yè)大學(xué), Ming-Guo Ma等人于2024年發(fā)表在Nano-Micro Letters（https://doi.org/10.1007/s40820-024-01386-5）上。原文：Hollow Metal–Organic Framework/MXene/Nanocellulose Composite Films for Giga/Terahertz Electromagnetic Shielding and Photothermal Conversion
原文鏈接：https://doi.org/10.1007/s40820-024-01386-5
轉(zhuǎn)自《石墨烯研究》公眾號
