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重慶大學魏子棟和李莉課題組--揭示Ir-MoO2界面化學鍵促進氫氧化反應的調(diào)控機制
       通過密度泛函理論計算和實驗研究,利用不同的界面化學鍵Ir-O、Ir-Mo和混合Ir-Mo/O,探討了MoO2負載的Ir催化劑在優(yōu)化氫氧化反應(HOR)活性中的調(diào)控機理。這里發(fā)現(xiàn), Ir/O-MoO2催化劑中通過 Ir-O鍵其界面電子分布是局部的,僅集中在Ir-O鍵上,降低了表面Ir原子的d帶中心,削弱了H*和OH*關(guān)鍵中間體的吸附能,最終促使HOR活性增強。其中,HOR交換電流密度高達1.96 mA/cmECSA2。相反, Ir/Mo-MoO2催化劑中通過Ir-Mo鍵其界面電子分布是離域的,分散在所有的界面Ir和Mo原子上,這使得表面Ir原子的d帶中心上移,增強了H*和OH*的吸附能,結(jié)果其HOR活性不如Ir/O−MoO2。其中,HOR交換電流密度僅為1.47 mA/cmECSA2。在Ir/ MoO2催化劑中存在混合界面鍵Ir-Mo/O的情況下,催化劑上不規(guī)則的H吸附位點,導致了較小的交換電流密度(1.10 mA/cmECSA2)。因此,該研究工作得出的結(jié)論是,調(diào)節(jié)界面化學鍵模式可以優(yōu)化金屬氧化物負載金屬催化劑的電子構(gòu)型,從而有效提高其催化活性。
 
 
Figure 1. 具有不同界面化學鍵時,相應催化劑幾何結(jié)構(gòu)的頂視圖和側(cè)視圖。
 
 
Figure 2. (a) Ir/Mo−MoO2, Ir/O−MoO2, 和 Ir/MoO2的電荷密度差,(b) 投影晶體軌道哈密頓布居(pCOHP)曲線和局域態(tài)密度(PDOS)。
 
 
Figure 3. Ir/Mo−MoO2, Ir/O−MoO2, 和 Ir/MoO2三種模型中界面和表面Ir原子的(a) Bader電荷和(b) d帶中心。
 
 
Figure 4. 在所研究模型的不同吸附位點上(a)H*( ΔEH*)和(b)OH *( ΔEOH*)的吸附能;(c-d)在所研究的模型中,HOR在OH*形成前后的吉布斯自由能圖。
 
 
Figure 5. Ir/Mo−MoO2, Ir/O−MoO2, 和 Ir/MoO2三種催化劑的Ir 4f XPS光譜。(b)所研究催化劑的極化曲線。(c)動力學電流密度的塔菲爾(Tafel)圖。(d)電化學活性表面積(ECSA)歸一化的活性比較。
  
       該研究工作由重慶大學魏子棟和李莉課題組于2021年發(fā)表在ACS Catalysis期刊上。原文:Revealing the Regulation Mechanism of Ir−MoO2 Interfacial Chemical Bonding for Improving Hydrogen Oxidation Reaction。

轉(zhuǎn)自《石墨烯研究》公眾號

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