準周期摩爾波紋及其對扭曲雙層石墨烯電子性能的影響已被深入研究。在小扭轉(zhuǎn)角θ時，由于原子的重構(gòu)，莫爾超晶格形成了一個狹窄的疇壁網(wǎng)絡(luò)，將微米級的AB和BA堆積區(qū)域分隔開。我們通過使用掃描探針光電流成像來解決出現(xiàn)在這些疇壁的塞貝克系數(shù)的納米變化。當(dāng)六方氮化硼襯底是光學(xué)雙曲線時，在中紅外頻率范圍內(nèi)，所觀察到的特征得到增強。該結(jié)果說明了納米光電流技術(shù)在二維材料中探測納米級電子不均勻性的能力。
Fig. 1 最小扭曲雙層石墨烯中的光電流。
Fig. 2 TBG中光電流的熱電起源。
Fig. 3 hBN Reststrahlen帶中的疇壁光電流模式。
Fig. 4 Reststrahlen帶內(nèi)外的局部電場和溫度。
相關(guān)研究成果于2021年由美國紐約哥倫比亞大學(xué)D. Halbertal課題組，發(fā)表在Nature Communications（https://doi.org/10.1038/s41467-021-21792-2）上。原文：Hyperbolic enhancement of photocurrent patterns in minimally twisted bilayer graphene。
轉(zhuǎn)自《石墨烯雜志》公眾號
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