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印度理工學(xué)院巴特那校區(qū)Anup Kumar Keshri課題組--超快,無化學(xué),量產(chǎn)高質(zhì)量剝離石墨烯
       隨著石墨烯商業(yè)化的發(fā)展,大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量的石墨烯薄片至關(guān)重要。這里,報道了報道了一種超快和可擴展的策略,直接將石墨剝離成高質(zhì)量的石墨烯(公斤級),并且對單層具有高選擇性,在該過程中無需使用任何插層劑,化學(xué)藥品或溶劑。使用等離子噴涂技術(shù)剝離石墨獲得石墨烯,對單層選擇性高達?85%,產(chǎn)率高達48克/小時。剝落的石墨烯幾乎沒有基底缺陷(Id/Ig=0),并且具有高質(zhì)量(C/O比=21.2,sp2%:?95%),表明結(jié)構(gòu)比較完美。此結(jié)果可重現(xiàn),表明該方案的熟練程度。該工作提供了等離子噴涂剝落的石墨烯的幾種概念驗證,以證明其在機械加固,無摩擦的透明導(dǎo)電涂層,和能量存儲設(shè)備等方面中的應(yīng)用。
 
  
Figure 1. (a)等離子噴涂剝落石墨烯的照片。石墨烯在(b)有機溶劑N-甲基吡咯烷酮(NMP)和(c)二甲基甲酰胺(DMF)中的分散。(d,e)剝離的石墨烯和石墨的X射線衍射(XRD)和拉曼光譜。(f)SEM圖。(g)石墨烯的氮吸附/解吸等溫線。
 
  
Figure 2. (a-p)單層石墨烯和雙層石墨烯在不同放大倍率下的TEM圖,對應(yīng)的SAED模式,以及AFM圖。(q)圖p中沿綠色虛線方向的高度情況。(r)石墨烯薄片的厚度情況。(t)石墨烯片的低倍SEM圖像。
 
  
Figure 3. 石墨烯薄片的(a)拉曼光譜,由拉曼圖衍生的(b)G和(c)D波段強度。(d)中部和(e)邊緣收集的拉曼光譜。(f)石墨烯的 XPS光譜。(g)C 1s XPS光譜。(h)GO,rGO,電化學(xué)剝離石墨烯(EcG),液相剝離石墨烯(LPEG),化學(xué)氣相生長石墨烯(CVD)中sp2和C含量進行比較。
 
  
Figure 4. (a)等離子功率與溫度的關(guān)系圖,以及(b)主氣體流速與飛行中速度的關(guān)系圖。(c)石墨剝落機理示意圖。(d)圖c部分的等離子羽流層流區(qū)域的放大圖。(e)湍流區(qū)域的放大圖。
  
        該研究工作由印度理工學(xué)院巴特那校區(qū)Anup Kumar Keshri課題組,于2020年發(fā)表在ACS Nano期刊上。原文:Ultra-Fast, Chemical-Free, Mass Production of High Quality Exfoliated Graphene。

轉(zhuǎn)自《石墨烯雜志》公眾號

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