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濟(jì)南大學(xué)Dan Wu課題組(第一作者為趙金秀博士)--還原氧化石墨烯支撐富含缺陷的ZnS納米顆粒實(shí)現(xiàn)高效N2-NH3轉(zhuǎn)化
       在大氣環(huán)境下電化學(xué)還原N2以合成NH3,已成為一種有前景的的碳中和策略,但極其需要高效率的電催化劑以活化N2。在這里,利用還原氧化石墨烯負(fù)載富含缺陷的ZnS納米顆粒(DR ZnS-rGO),作為高效電催化劑用于N2-NH3轉(zhuǎn)化,表現(xiàn)出極好的選擇性。在0.1 M HCl溶液中,這種DR ZnS-rGO實(shí)現(xiàn)高的合成NH3產(chǎn)率,(51.2μgh-1 mgcat.-1,-0.15 V),和高的法拉第效率達(dá)28.2%(-0.10 V vs. RHE),以及高的電化學(xué)性能和結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。同位素標(biāo)記實(shí)驗(yàn)表明,合成氨的氮源是來自于N2。密度泛函理論計(jì)算表明,ZnS-rGO DR中的S空位不僅提供了反應(yīng)位點(diǎn),還促進(jìn)了N2分子的活化,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)N2-NH3轉(zhuǎn)化。
 
 
Figure 1.(a)DR ZnS-rGO的XRD圖譜。(b)DR ZnS-rGO的SEM,(c)TEM和(d)HRTEM圖像。(e)DF ZnS NP-rGO和DR ZnS NP-rGO的PALS。擬合結(jié)果在表S1中列出。(f)DR ZnS-rGO的室溫EPR光譜。DR ZnS-rGO中(g)C,(h)Zn和(i)S元素的EDX元素映射光譜。
 
 
Figure 2. (a)DR ZnS-rGO中(b)C 1s,(c)Zn 2p和(d)S 2p的XPS光譜。
 
 
Figure 3.(a)DR ZnS-rGO/CP分別在Ar和N2飽和的0.1 M HCl中的LSV曲線。(b)不同電位時(shí) 的計(jì)時(shí)電流曲線。(c)不同電位測試后,0.1 M HCl電解質(zhì)的UV-Vis吸收光譜。(d)特定電位下的產(chǎn)率及對(duì)應(yīng)FE。
 
 
Figure 4. (a)所構(gòu)建ZnS(001)-rGO表面處的S空位示意圖,兩種S空位的時(shí)的差分電荷密度圖。(b)ZnS(001)-rGO表面具有S空位時(shí),發(fā)生N2電還原時(shí)所計(jì)算的自由能。(c)最優(yōu)中間產(chǎn)物示意圖,以及遠(yuǎn)端和交替反應(yīng)機(jī)制示意圖。
 
      該研究工作由濟(jì)南大學(xué)Dan Wu課題組(第一作者為趙金秀博士)于2020年發(fā)表在Applied Catalysis B: Environmental期刊上。原文:Defect-rich ZnS nanoparticles supported on reduced graphene oxide for high-efficiency ambient N2-to-NH3 conversion。

轉(zhuǎn)自《石墨烯雜志》公眾號(hào)

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