釩酸鉍(BiVO
4)是一種很有前途的光電化學(xué)(PEC)水氧化材料。但是,緩慢的水氧化動(dòng)力學(xué),較差的電子傳輸性能和嚴(yán)重的電荷重組限制了其性能。在此,通過(guò)合理設(shè)計(jì)電極結(jié)構(gòu),開(kāi)發(fā)了一種新型的三重光陽(yáng)極。NiFe層狀雙氫氧化物(NiFe-LDH)作為水氧化催化劑(WOC),可加速光生空穴從BiVO
4光電極向電解質(zhì)的傳輸,以改善水氧化反應(yīng),而還原的氧化石墨烯(rGO)納米片可作為有效的電子穿梭介體,用于抑制BiVO
4/NiFe-LDH界面上的電子-空穴復(fù)合。另一方面,rGO可以使NiFe-LDH的電沉積電勢(shì)正向移動(dòng)(-0.1 V vs. RHE),極大地保護(hù)BiVO
4電極,因?yàn)樨?fù)電勢(shì)會(huì)降低其PEC活性。與純的BiVO
4、BiVO
4/rGO和BiVO
4/NiFe-LDH電極相比,該電極具有更高的光電流密度,在AM 1.5 G光照下,1.23 V時(shí)的光電流密度為3.26 mA cm
-2,且具有良好的穩(wěn)定性。PEC性能的提高歸因于rGO和NiFe-LDH的協(xié)同作用,加速了光陽(yáng)極/電解質(zhì)界面之間的電荷分離/轉(zhuǎn)移以及表面水的氧化反應(yīng)。
Fig. 1 (A) BiVO
4、(B) BiVO
4/rGO、(C) BiVO
4/rGO/NiFe-LDH的SEM圖,BiVO
4/rGO/NiFe-LDH的(D) TEM、(E) HRTEM、(F) EDX圖。
Fig. 2 制備的光陽(yáng)極的(A) XRD譜,(B)拉曼譜。
Fig. 3 制備的光電陽(yáng)極的XPS分析:(A) Bi 4f,(B) V 2p,(C) O 1s,(D) Ni 2p和(E) Fe 2p結(jié)合能區(qū)。
Fig. 4 制備的光陽(yáng)極的(A) LSV曲線(xiàn),(B) ABPE曲線(xiàn),(C) η
trans曲線(xiàn),(D) i-t曲線(xiàn)。
Fig. 5 制備的光陽(yáng)極在AM 1.5 G光照下的(A) UV-Vis漫反射光譜,(B)轉(zhuǎn)換Kubelka-Munk函數(shù)與光能量的對(duì)應(yīng)圖,(C)施加電壓為1.23 V vs RHE時(shí)測(cè)量的IPCEs,(D) 0.6 V vs RHE時(shí)測(cè)量的EIS。
Fig. 6 (A) NiFe-LDH在陽(yáng)極上的電化學(xué)沉積形成機(jī)理。HER的自由能圖在BiVO
4和BiVO
4/rGO的表面部位符合(B)Volmer-Heyrovsky途徑和(C)Volmer-Tafel途徑。(D) BiVO
4 (001)和BiVO
4/rGO的表面結(jié)構(gòu)。在不同電位下BiVO
4和BiVO
4/rGO的表面位點(diǎn)上,HER的中間態(tài)和外態(tài)自由能圖符合(E)Volmer-Heyrovsky(F)和Volmer-Tafel路徑。
Fig. 7 BiVO
4/rGO/NiFe-LDH的PEC機(jī)制。
相關(guān)研究成果于2020年由上海大學(xué)Guangren Qian課題組,發(fā)表在Journal of Materials Chemistry A (DOI: 10.1039/D0TA04572A)上。原文:Identifying dual functions of rGO in a BiVO
4/rGO/NiFe-layered double hydroxide photoanode for efficient photoelectrochemical water splitting。
摘自《石墨烯雜志》公眾號(hào):